关键词：高间距精度,材料和表面高质量（硅和融石英）,优化的定制设计,晶圆级制造
光刻刻蚀微纳光学元件
Micro-NanoOpticalElementsFabricated byPhotolithographyandEtching
硅微透镜阵列MLA/石英微透镜阵列MLA/刻蚀光栅/光栅尺/偏振线栅等
产品描述：
适用于晶体材料微纳光学元件规模化生产制作及其样品制作，具有可靠性高，精度高，性能优异等优势，在光通讯，高端装备，工业激光整形，红外等场景广泛应用。
技术数据:
